光敏印章是一种利用特殊材料的感光性来制作印章的技术。这种印章在1998年初从日本引进，并迅速在全世界范围内流行开来。光敏印章的基本原理是在印章表面不需要印迹的地方形成一层不能渗透的膜，从而实现印章的效果。印油通过光敏平面橡胶渗透，使得制作印章的速度非常快。
光敏印章的工艺特点包括：
平整的印面：
印面相对比较平整，字迹是由光敏橡胶垫上的微孔组成的。
快速成像：
印油在压力作用下，通过印面文字微孔渗出形成印文。
无需印泥：
光敏印章使用方便，无需使用印泥，即印即干。
高清晰度：
成像极其清晰，印迹不易模糊。
耐用性：
光敏印章可重复加印油使用数十万次，使用寿命长。
光敏印章的制作过程通常包括以下步骤：
材料准备：
使用特殊的化工合成材料。
曝光过程：
通过专用设备瞬间发出强光辐射，使材料表面发生光氧化及热交联作用。
形成薄膜：
在材料表面形成一层具有封孔闭孔作用的薄膜，隔绝印油的渗透。
光敏印章因其独特的制作工艺和优点，已经成为现代印章行业的重要成员，广泛应用于各种需要快速、清晰、耐用印章的场合。